真空炉
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金属有机化学气相沉积(MOCVD)
金属有机物化学气相沉积(简称MOCVD)是手艺生长III-V族 ，II-VI族化合物及合金的薄层单晶的主要要领。用氢气或氮气作为载气 ，通入液体中携带出蒸汽 ，与V族的氢化物(如NH3、PH3、AsH3)混淆 ，通入反应室 ，在加热的衬底外貌爆发反应 ，外延生长化合物晶体薄膜。
LED的发光焦点是一种称为外延片(Epitaxial Slice)的复合质料 ，由于Mocvd手艺在外延片上的乐成运用 ，使得此种装备使用量迅速增添。
由于MOCVD装备事情时势情温度高于2000℃ ，钨钼也是该装备部分组件的首选质料。
要害词:
热体
mocvd
装备
外延
沉积
手艺
化合物
金属
生长
反应
上一个
支架
下一个
无
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